2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[7p-S45-1~14] 3.7 レーザープロセシング

2017年9月7日(木) 13:15 〜 17:30 S45 (第6会議室)

坂倉 政明(京大)、奈良崎 愛子(産総研)

17:15 〜 17:30

[7p-S45-14] 半導体材料内部への偏光依存ナノ周期構造形成における電子状態の影響

中西 佑太1、下間 靖彦1、坂倉 政明2、三浦 清貴1 (1.京大院工、2.次世代レーザープロセッシング技術研究組合)

キーワード:ナノグレーティング、半導体、フェムト秒レーザー

半導体材料内部にフェムト秒レーザーを集光照射すると、偏光依存ナノ周期構造が形成する。これまで間接遷移型半導体でのみナノ周期構造が確認されているが、形成メカニズムについては不明な点が多い。本研究では、Snのドープによりバンド構造が直接遷移型に変化するとの報告があるβ-Ga2O3の内部にフェムト秒レーザーを照射し、誘起される構造を比較した。また第一原理計算により半導体の電子状態とナノ周期構造との関係を明らかにした。