2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 革新デバイスを支えるIII-V族半導体の成長技術

[8a-A203-1~5] 革新デバイスを支えるIII-V族半導体の成長技術

2017年9月8日(金) 09:00 〜 11:45 A203 (203)

下村 哲(愛媛大)

11:15 〜 11:45

[8a-A203-5] MOVPE選択成長法によるナノワイヤ成長とデバイス応用

冨岡 克広1、本久 順一1 (1.北大院情報科学および量子集積センター)

キーワード:ナノワイヤ、MOVPE

近年、ナノメートルスケールの直径を有した半導体ナノワイヤが、次世代エレクトロ二クスやSiフォトニクスの基本材料として注目されている。半導体ナノワイヤ材料の成長手法としては、触媒金属を利用した気相-液相-固相(VLS)機構による成長がある。一方、我々はデバイス応用の観点から、MOVPE選択成長法によって半導体ナノワイヤを作製している。今回は、MOVPE選択成長法による半導体ナノワイヤの成長とそのデバイス応用について報告する。