2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[8a-A402-1~9] 8.5 プラズマナノテクノロジー

2017年9月8日(金) 09:15 〜 11:45 A402 (402+403)

内田 儀一郎(阪大)

10:30 〜 10:45

[8a-A402-5] 表面金ナノ粒子を活用したシリコン窒化の促進

北嶋 武1、假谷 祐貴1、中野 俊樹1 (1.防大)

キーワード:ナノ粒子、触媒、プラズマCVD

金ナノ粒子の触媒効果発現が近年注目されている。我々は金ナノ粒子をプラズマによる表面改質へ応用し、プラズマ照射表面へのダメージの低減と、触媒効果の活用を図る。シリコン基板上金ナノ粒子へ窒素プラズマを照射したところ、金ナノ粒子がない場合と同等の窒化速度が得られた。金ナノ粒子は窒素中性ラジカルによるシリコン窒化を促進する効果があると判断された。