[8a-A402-1~9] 8.5 Plasma nanotechnology

[8a-A402-7] Analysis of Fine Particles in Plasma by Imaging Mie-Scattering Ellipsometry

〇Yasuaki Hayashi¹, Yuya Fujita¹, Akio Sanpei¹ (1.Kyoto Inst. Technol.)

Keywords:fine particle plasma, ellipsometry, Mie scattering

ﾐｰ散乱エリプソメトリ測定において、光検出器にイメージセンサを用いると、微粒子の位置や動きを捉えながら、粒径の空間分布など、さらに詳しい解析が可能となる。本研究では、プラズマ中に捕捉された微粒子の測定・解析の可能性について調べた。その結果、下の層から順に、2.765, 2.75, 2.74, 2.70μmであることが分かった。これより、0.01μm の粒径の識別が可能なこと、層毎に極めて細かく粒径で分離することが明らかになった。