2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[8a-A414-1~8] 13.9 光物性・発光デバイス

2017年9月8日(金) 09:30 〜 11:30 A414 (414)

國本 崇(徳島文理大)

10:30 〜 10:45

[8a-A414-5] シリコン中に共注入した酸素がエルビウム分布に与える影響

清水 康雄1、涂 远1、アブデルガファ 愛満2、鈴木 雄大2、魏 啓楠2、谷井 孝至2、品田 高宏3、Prati Enrico4、Celebrano Michele5、Finazzi Marco5、Ghirardini Lavinia5、井上 耕治1、永井 康介1 (1.東北大金研、2.早大理工、3.CIES Tohoku Univ.、4.IFN-CNR、5.Politecnico di Milano)

キーワード:エルビウム、酸素、アトムプローブ

Siに添加されたErは,通信波長帯1.5 μmに相当する不純物準位を形成するため,シリコンフォトニクス分野においてその発光特性に関する研究が盛んに行われてきた.最近では,Erと共に酸素を添加することで形成されるErOx複合体によって,高効率な発光特性が得られることが報告されている.我々はこれら添加元素の分布と発光の関連を明らかにするべく,原子レベルで元素の実空間分布を得る3次元アトムプローブ法を適用してSi中に共注入したErと酸素の分布を調べてきた.今回は酸素濃度依存性に着目し,共注入した酸素がEr分布に与える影響を報告する.