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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[8a-C17-1~11] 3.2 材料・機器光学

2017年9月8日(金) 09:00 〜 12:15 C17 (研修室2)

石飛秀和(阪大)、尾下善紀(ニコン)、片山龍一(福岡工大)

11:15 〜 11:30

[8a-C17-8] 532nm連続波レーザーを用いたPPMg:SLTの光学吸収測定

〇石田智大¹、三尾典克¹ (1.東大工)

キーワード：SLT、吸収計測