2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[8a-C24-1~12] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2017年9月8日(金) 09:00 〜 12:30 C24 (C24)

吉田 憲充(岐阜大)

11:30 〜 11:45

[8a-C24-10] 熱処理による硫化インジウム薄膜のキャリア制御

後藤 民浩1 (1.群馬大理工)

キーワード:硫化物半導体、熱処理、キャリア密度

我々は、熱処理によるIn-S薄膜の電気抵抗率の変化を調べ、キャリア生成機構の理解と制御を試みた。