[8a-PB4-1~20] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

△ [8a-PB4-7] CCP-CVD法によるSiO:CH微粒子堆積過程のレーザー散乱測定

〇(B)堀籠 浩司¹、矢崎 衛¹、相原 巧¹、井上 泰志¹、高井 治² (1.千葉工大、2.関東学院大)

キーワード：薄膜、プラズマ、レーザー