2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[8a-PB4-1~20] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2017年9月8日(金) 09:30 〜 11:30 PB4 (国際センター2F)

09:30 〜 11:30

△ [8a-PB4-8] ICP-CVD法によるSiO:CH成膜中の分光学的その場測定

〇(B)清藤 雅人1、平井 駿輝1、相原 巧1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大、2.関東学院大)

キーワード：薄膜、プラズマ