[8p-A411-1~10] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[8p-A411-7] 誘導帯電を利用した半導体デバイスの純水スプレー洗浄の静電気障害対策

〇清家 善之¹、丹菊 大輝¹、小林 義典²、宮地 計二²、甘利 昌彦²、森 竜雄¹ (1.愛知工大、2.旭サナック)

キーワード：半導体、静電気障害、スプレー洗浄

半導体デバイス製造において、純水スプレーによる洗浄工程が注目されている。この純水スプレー洗浄は、比抵抗値の高い純水を霧化させる方法のために液滴の分裂帯電によって静電気が生じ、半導体デバイスに静電気障害ESD (Electrostatic Discharge)を生じさせるという課題がある。本報告では試作した誘導帯電素子に高電圧を印加し、スプレーする純水の液滴に誘導帯電させることにより静電気を除去させる新たな方法を発案し、実験でその効果を確かめた。