2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[8p-A411-1~10] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2017年9月8日(金) 13:15 〜 16:00 A411 (411)

嵯峨 幸一郎(ソニー)

15:15 〜 15:30

[8p-A411-8] スキン層なしPVAブラシの回転が摺動時の摩擦に与える効果

〇(M2)伊藤 雅佳1、真田 俊之1、福永 明2、檜山 浩國2 (1.静岡大工、2.荏原製作所)

キーワード:PVAブラシ

PVAブラシは半導体製造工程の一つであるCMP後の洗浄に用いられる。しかし、その洗浄メカニズムの詳細は解明されていない。PVAブラシはスキン層と呼ばれる内部より気孔率の低い層が表面に存在するが、スキン層の存在しないブラシの研究は少なく、スキン層の有無が表面との接触状態に与える影響は明らかになっていない。そこで本研究は、スキン層が存在しないPVAブラシを用いて、回転したブラシを摺動させた際の摩擦力測定を行った。