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[8p-A411-8] スキン層なしPVAブラシの回転が摺動時の摩擦に与える効果
キーワード:PVAブラシ
PVAブラシは半導体製造工程の一つであるCMP後の洗浄に用いられる。しかし、その洗浄メカニズムの詳細は解明されていない。PVAブラシはスキン層と呼ばれる内部より気孔率の低い層が表面に存在するが、スキン層の存在しないブラシの研究は少なく、スキン層の有無が表面との接触状態に与える影響は明らかになっていない。そこで本研究は、スキン層が存在しないPVAブラシを用いて、回転したブラシを摺動させた際の摩擦力測定を行った。