[8p-A504-1~13] 6.1 強誘電体薄膜

△ [8p-A504-3] Bi₄Ti₃O₁₂-NiFe₂O₄ナノ相分離薄膜の作製とその構造制御

〇池田 竜大¹、原田 龍馬¹、丸山 伸伍¹、松本 祐司¹ (1.東北大院工)

キーワード：ナノ相分離薄膜、パルスレーザー堆積法、フラックス

液相膜を介したパルスレーザー堆積法であるフラックスエピタキシー法により，Bi₄Ti₃O₁₂-NiFe₂O₄複合薄膜を作製した．作製した薄膜は，pillar-matrix型のナノ相分離構造を形成していることがX線回折および走査型電子顕微鏡により確かめられた．また，高温条件で不安定なBi酸化物が安定化されていた他，NiFe₂O₄の結晶性が向上し，従来より大きなNiFe₂O₄ピラーを形成していることが確認され，ナノ相分離薄膜における構造制御の可能性が示唆された．