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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[8p-A504-1~13] 6.1 強誘電体薄膜

6.1と13.3と13.5のコードシェアセッションあり

2017年9月8日(金) 13:30 〜 17:00 A504 (504+505)

坂本渉(名大)、吉村武(大阪府立大)

14:30 〜 14:45

[8p-A504-5] BiFeO₃薄膜のMOCVD成長におけるプロセスウィンドウの検討

〇吉村奈緒¹、藤沢浩訓¹、中嶋誠二¹、清水勝¹ (1.兵県大工)

キーワード：MOCVD、BFO薄膜、プロセスウィンドウ