[8p-PA1-1~27] 6.3 Oxide electronics

△ [8p-PA1-18] Irradiation Effects of Excimer Light on Zinc Oxide Based Thin Films Grown by Vacuum and Non-Vacuum Processes

〇Sohei Matsuda¹, Koki Nagayama¹, Oliver Kaltstein¹, Fumiya Kimura¹, Kazuyori Oura¹, Masatoshi Koyama¹, Toshihiko Maemoto¹, Shigehiko Sasa¹ (1.Osaka Inst of Tech. NMRC)

Keywords:Zinc Oxide, Irradiation Effects of Excimer Light

真空または非真空プロセスにより成長した酸化亜鉛(ZnO)系薄膜を用いて，薄膜トランジスタの作製や，セルフスイッチングナノダイオード(SSD)の研究に取り組んできた．しかし，デバイスプロセスにおけるダメージによる高抵抗化，また経時劣化による抵抗値が変化することから，より安定にデバイス特性を制御するために，我々は今回，室温でZnO系薄膜へエキシマ光を照射し，抵抗および電子濃度の制御を試みた．