[8p-PA1-1~27] 6.3 酸化物エレクトロニクス

△ [8p-PA1-18] 真空および非真空プロセスにより成長した酸化亜鉛系薄膜へのエキシマ光照射効果

〇松田 宗平¹、永山 幸希¹、カルトシュタイン オリバー¹、木村 史哉¹、大浦 紀頼¹、小山 政俊¹、前元 利彦¹、佐々 誠彦¹ (1.大阪工大 ナノ材研)

キーワード：酸化亜鉛、エキシマ光照射効果

真空または非真空プロセスにより成長した酸化亜鉛(ZnO)系薄膜を用いて，薄膜トランジスタの作製や，セルフスイッチングナノダイオード(SSD)の研究に取り組んできた．しかし，デバイスプロセスにおけるダメージによる高抵抗化，また経時劣化による抵抗値が変化することから，より安定にデバイス特性を制御するために，我々は今回，室温でZnO系薄膜へエキシマ光を照射し，抵抗および電子濃度の制御を試みた．