2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[8p-S21-1~14] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

3.11と3.12のコードシェアセッションあり

2017年9月8日(金) 13:15 〜 17:00 S21 (パレスA)

岡本 晃一(九大)、久保 若奈(農工大)

15:15 〜 15:30

[8p-S21-8] 光応答材料を用いたプラズモニック光スイッチング素子の開発

近藤 克哉1、三宮 工1 (1.東工大)

キーワード:プラズモニクス、フォトクロミズム

光回路実現のためには、光情報を蓄えることのできるメモリや、光信号による演算を行うトランジスタやスイッチング素子が必要となる。一方で、光回路の集積化のためには真空波長以下で動作する素子材料が必要となるが、光をナノサイズに閉じ込め、短い表面波波長を実現することができるプラズモニック材料が最適である。光演算素子としては、光照射により屈折率・吸光率などの光学特性が変化する材料が必要となる。この光応答は、波長以下のスケールで十分変化することが求められる。光応答する材料としては、光刺激により生じた2つの異性体間で、分子の幾何構造が異なるフォトクロミック材料があげられるが、屈折率・誘電率変化は比較的小さく、実働させるには数ミクロンの厚みが必要となる。本研究では、フォトクロミック材料とプラズモニック材料を複合し、ナノスケールで光応答を動的に変化させることのできる素子材料の開発を目指す。