16:30 〜 16:45 [14p-502-11] Fe源としてトリス(2,4-ペンタンジオナト)鉄(III)を用いたMOCVD法によるFeドープNiO薄膜の作製 〇酒井 駿吾1、田口 健太朗1、藤原 一樹1、石川 博康1,2 (1.芝浦工大、2.SIT グリーンイノベーション研究センター)