Xu Lun

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発表者・著者、共著者

2017年3月17日(金) 13:00 〜 17:00 304 (304)

一般セッション(口頭講演)
| CS コードシェアセッション
| CS.2 6.1強誘電体薄膜,13.3絶縁膜技術,13.5デバイス／集積化技術のコードシェア

[17p-304-1~15] CS.2 6.1強誘電体薄膜,13.3絶縁膜技術,13.5デバイス／集積化技術のコードシェア

15:15 〜 15:30

▲ [17p-304-9] Dopant-independent maximum Pr of doped ferroelectric HfO₂

〇(D)Xu Lun¹、Shibayama Shigehisa¹、Nishimura Tomonori¹、Yajima Takeaki¹、Migita Shinji²、Toriumi Akira¹ (1.The Univ. of Tokyo、2.AIST)