09:45 〜 10:00 [16a-419-4] Cu/Ta2O5/Pt素子におけるCuフィラメント形成過程の活性化障壁測定 〇(B)重岡 祐貴1、長谷川 剛1、鶴岡 徹2 (1.早大先進理工、2.物材機構)