13:30 〜 15:30 [14p-P4-31] 二軸電界印加法を用いた酸化グラフェン(rGO)/Siヘテロ接合の形成 〇伊藤 優征1、小宮山 崇夫1、長南 安紀1、山口 博之1、青山 隆1 (1.秋田県大システム科学技術)