一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2017年3月14日(火) 13:45 〜 18:00 512 (511+512)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇萩谷 将人1、宮地 悟代1 (1.東京農工大)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(M2)井筒 類1、近藤 恭介1、富田 卓朗1 (1.徳島大工)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(M1)山縣 秀人1、塚本 雅裕2、佐藤 雄二2、菖蒲 敬久3、升野 振一郎2、東野 律子2、山下 顕資1、山下 順広4、阿部 信行2 (1.阪大院工、2.阪大接合研、3.日本原研、4.石川工業試験場)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇(B)中村 優里1、杉本 達之1、藤原 穂波1、泉澤 魁1、宮本 克彦1,2、鳥本 司3、森田 隆二4、尾松 孝茂1,2 (1.千葉大院融合、2.千葉大分子キラリティーセンター、3.名大院工、4.北大院工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇(M1)鈴木 大希1、中林 誠一郎1、吉川 洋史1 (1.埼大院理工)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M1)田崎 涼平1、東畠 三洋1、中村 大輔1、諏訪 輝1,2、池上 浩1,2 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトンNextGLP共同部門)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(D)袁 澤1、中村 俊博2、安達 定雄2、松石 清人1 (1.筑波大数理物質系、2.群馬大院理工)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇西 哲平1、早坂 祐一郎2、鈴木 登美子1、佐藤 俊介1、中村 貴宏3、佐藤 俊一3、森川 健志1 (1.豊田中研、2.東北大先端電子顕微鏡センター、3.東北大多元研)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇若月 雄哉1、越崎 直人1、石川 善恵2 (1.北大工、2.産総研)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(DC)榊 祥太1、越崎 直人1、齋藤 健一2、坂本 全教2、和田 裕之3、石川 善恵4 (1.北大工、2.広大理、3.東工大理工、4.産総研)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇柳原 龍河1、朝日 剛2、小田原 修1、和田 裕之1 (1.東工大物質理工学院、2.愛媛大院理工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇角谷 悟1、田辺 里枝1、伊藤 義郎1 (1.長岡技科大)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇スヴィアトコフスカ ヴァルコッカ ジャネータ1、ピアテンコ アレキサンダー2、川口 建二2、越崎 直人3、ヴォルミーマルザレック マルタ1 (1.ポーランド核物研、2.産総研、3.北大工)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇高鶴 凌1、東畠 三洋1、中村 大輔1、加藤 邦久2、近藤 健2 (1.九大シス情、2.リンテック株式会社)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇山崎 佑起1、佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
スケジュール
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