一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2017年3月15日(水) 09:00 〜 12:15 213 (213)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇益子 裕1、藤田 慧祐1、戸倉川 正樹1 (1.電通大レーザー研)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇八木澤 大希1、白川 晃1 (1.電通大レーザー研)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
内部 優花1、黒須 雄太1、〇白川 晃1 (1.電通大レーザー研)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇(M2)黒須 雄太1 (1.電通大レーザー研)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇鈴木 将之1、米谷 新2、黒田 寛人1 (1.愛知医大、2.埼玉医大)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇相楽 啓1、藤田 慧祐1、戸倉川 正樹1 (1.電通大レーザー研)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
横島 直行1、北島 将太朗1、〇白川 晃1、Choi Sunyoung2、Rotermund Fabian3 (1.電通大レーザー研、2.ハンブルグ大、3.KAIST)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇戸倉川 正樹1、藤田 慧祐1、益子 裕1、クランケル クリスティアン2,3 (1.電通大レーザー研、2.ハンブルグ大学レーザー研、3.ハンブルグ超高速イメージセンター)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇杉山 直仁1、田中 裕樹1、神成 文彦1 (1.慶大理工)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
Yahia Vincent1、〇Taira Takunori1 (1.IMS)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇古瀬 裕章1、中沢 俊亮1、吉田 英弘2、森田 孝治2、鈴木 達2、金 炳男2、目 義雄2、平賀 啓二郎1,2 (1.北見工大、2.物材機構)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇上原 日和2、安原 亮1、時田 茂樹2、村上 政直3、清水 政二3 (1.核融合研、2.阪大レーザー研、3.三星ダイヤモンド工業(株))
スケジュール
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