一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2017年3月15日(水) 09:00 〜 12:15 512 (511+512)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇欠端 雅之1、小山 達己2、屋代 英彦1、西川 正2、鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光、2.東電大)
スケジュール
いいね！
)
09:15 〜 09:30
〇欠端 雅之1、屋代 英彦1、大矢根 綾子2、伊藤 敦夫3、鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光、2.産総研 ナノ材料、3.産総研 健康工学)
スケジュール
いいね！
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09:30 〜 09:45
〇川北 真鈴1、宮川 鈴衣奈1、江龍 修1 (1.名工大)
スケジュール
いいね！
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09:45 〜 10:00
〇谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
いいね！
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10:00 〜 10:15
〇青柳 弓槻1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
いいね！
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10:15 〜 10:30
〇田中 悠太1、常行 真司1,2 (1.東大院理、2.東大物性研)
スケジュール
いいね！
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10:45 〜 11:00
山崎 勇輝1、川上 博貴1、直井 美貴1、〇富田 卓朗1 (1.徳島大工)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(M1)川上 博貴1、直井 美貴1、富田 卓朗1 (1.徳島大工)
スケジュール
いいね！
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11:15 〜 11:30
〇(B)後藤 兼三1、宮川 鈴衣奈1、江龍 修1 (1.名工大)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇飯野 敬矩1、萩原 宏規1、前野 貴則1、S.W. Lee2、笠井 宥佑3、佐久間 臣耶3、早川 健3、新井 史人3、細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質、2.東大院理、3.名大院工)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇山口 生吹1、香田 祖光2、早崎 芳夫1 (1.宇大CORE、2.凸版印刷)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇中村 晃直1、坂倉 政明2、下間 靖彦1、三浦 清貴1 (1.京大院工、2.京大産連本部)
スケジュール
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