一般セッション(ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス
2017年3月15日(水) 13:30 〜 15:30 P2 (展示ホールＢ)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 15:30
〇伊藤 寛之1、阿部 紘士1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇阿部 紘士1、馬場 俊彦1 (1.横国大・院工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇雛倉 陽介1、寺田 陽祐1、新井 宏之1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇北條 惠子1、寺田 陽祐1、馬場 俊彦1 (1.横浜国大院工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇岡山 秀彰1,2、太縄 陽介1,2、志村 大輔1,2、高橋 博之1,2、八重樫 浩樹1,2、佐々木 浩紀1,2 (1.沖電気、2.PETRA)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇(M2)三橋 頼人1、水呉 拓也1、松島 裕一2、石川 浩1、宇髙 勝之1 (1.早大理工、2.GCS機構)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇清水 叶1、浅川 奨1、末廣 大輔1、松島 裕一2、石川 浩1、宇高 勝之1 (1.早大理工、2.早大GCS機構)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇浅川 奨1、末廣 大輔1、清水 叶1、松島 裕一2、石川 浩1、宇髙 勝之1 (1.早大理工、2.早大GCS機構)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇友野 裕貴1、貝原 輝則1、清水 大雅1 (1.農工大工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇中村 文1、鈴木 恵治郎2、谷澤 健2、大塚 実2、横山 信幸2、松麿 和幸2、関 三好2、越野 圭二2、池田 和浩2、並木 周2、河島 整2、津田 裕之1 (1.慶應大理、2.産総研)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇渥美 裕樹1、渡部 和宏2、宇田 成孝2、三浦 登2、森 雅彦1、榊原 陽一1,2 (1.産総研、2.明治大学)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇相川 政輝1、西山 哲央1、鎌田 直樹1、大貫 雄也1、杉山 滉一1、早坂 夏樹1、内田 和希1、韓 旭1、ペリヤナヤガム ガンディ カッラサン1、下村 和彦1 (1.上智大理工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇早坂 夏樹1、西山 哲央1、鎌田 直樹1、大貫 雄也1、韓 旭1、ペリヤナヤガム ガンディ カッラサン1、相川 政輝1、内田 和希1、杉山 滉一1 (1.上智大理工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇富樫 祐太郎1、三田地 成幸1、影山 裕一2、木村 和資2 (1.東京工科大学、2.横浜ゴム(株))
スケジュール
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