一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2017年3月16日(木) 13:15 〜 16:30 422 (422)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:45
〇富田 康生1 (1.電通大院基盤理工)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇米田 優1、石川 謙1 (1.東工大院)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇高鍋 彰文1、小島 秀子2、朝日 透1,2 (1.早大院先進理工、2.早大ナノ・ライフ創研機構)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇木梨 憲司1、坂井 亙1、堤 直人1 (1.京都工芸繊維大学)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇坂本 盛嗣1、中元 勇貴1、河合 孝太郎1、野田 浩平1、佐々木 友之1、川月 喜弘2、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇(D)河合 孝太郎1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、川月 喜弘2、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M1C)早川 智亮1、山口 誠1、川手 悦男2 (1.秋田大学理工、2.有限会社トラス)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇西立野 将史1、鄭 麗和2、桜井 康樹1、平等 拓範2 (1.santec、2.分子研)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
後藤 祐紀1、〇河村 希典1、佐藤 進2 (1.秋田大院理工、2.液晶レンズ研究所)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇(M1)斉藤 慎太郎1、後藤 祐紀1、河村 希典1、佐藤 進2 (1.秋田大院理工、2.液晶レンズ研究所)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇臼井 鴻志1、片山 絵梨香1、久野 恭平1、赤松 範久1、Barrett Christopher1,2、宍戸 厚1,3 (1.東工大化生研、2.McGill University、3.JSTさきがけ)
スケジュール
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