一般セッション(ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2017年3月16日(木) 13:30 〜 15:30 P1 (展示ホールＢ)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 15:30
〇林 克幸1、松尾 繁樹1 (1.芝工大工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇山口 生吹1、阿部 哲也1、長谷川 智士1、早崎 芳夫1 (1.宇大CORE)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇(B)横田 理樹1、渡邉 歴2、玉木 隆幸1 (1.奈良高専、2.立命館大院工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇藤田 大地1、飯野 敬矩1、萩原 宏規1、ヤリクン ヤシャイラ2、田中 陽2、細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質、2.理研QBiC)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇(B)竹内 萌1、花田 修賢1 (1.弘前大理工)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇(B)阿部 将士1、ゼリーン ダニエラ2、寺川 光洋1,3、河野 弘幸4、宮脇 淳史4、緑川 克美2、杉岡 幸次2 (1.慶大理工、2.理研 RAP、3.慶大院理工、4.理研 BSI)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇宇野 和行1、山本 拓哉1、秋津 哲也1、實野 孝久2 (1.山梨大工、2.阪大レーザー研)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇畑中 耕治1、若思 馮1、維宏 徐1 (1.中央研究院)
スケジュール
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13:30 〜 15:30
〇北山 誠治1 (1.福井大教)
スケジュール
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