一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
09:00 〜 09:15
〇(M1)落合 祐輔1、森本 貴明1、福田 伸子3、大木 義路1,2 (1.早大先進理工、2.早大材研、3.産総研FLEC)
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09:15 〜 09:30
〇高森 悠圭1、落合 祐輔1、森本 貴明1、福田 伸子3、大木 義路1,2 (1.早大先進理工、2.早大材研、3.産総研FLEC)
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09:30 〜 09:45
〇大野 祐樹1、清水 耕作1 (1.日大生産工)
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09:45 〜 10:00
〇(M1)Felizco JenichiClairvaux Escubio1、Uenuma Mutsunori1、Senaha Daiki1、Ishikawa Yasuaki1、Uraoka Yukiharu1 (1.NAIST)
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10:00 〜 10:15
〇遠藤 治之1、高橋 強1、柏葉 安兵衛2 (1.岩手県工技センタ、2.岩手大)
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10:30 〜 10:45
〇小島 一信1、秩父 重英1 (1.東北大多元研)
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10:45 〜 11:00
〇相浦 義弘1、小澤 健一2、長谷 泉1、阪東 恭子1、羽賀 浩人1,3、川中 浩史1、三溝 朱音1,4、菊地 直人1 (1.産総研、2.東工大、3.茨城大、4.東理大)
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11:00 〜 11:15
〇田沼 涼1、杉山 睦1 (1.東理大 理工/総研)
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11:15 〜 11:30
〇(PC)半那 拓1、平松 秀典1,2、坂口 勲3、細野 秀雄1,2 (1.東工大 元素戦略研、2.東工大 フロンティア材料研、3.物材機構)
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11:30 〜 11:45
〇川原村 敏幸1、鄧 太 江1、刘 丽1、E.K.C. ﾌﾟﾗﾃﾞｨｰﾌﾟ1、龍田 宗孝1、古田 守1、須和 祐太1、佐藤 翔太1、中曽根 義晃1、山沖 駿友1、西 美咲1、小林 勇亮1、坂本 雅仁1、ﾙﾄﾝｼﾞｬﾝ ﾋﾟﾓﾝﾊﾟﾝ1 (1.高知工大)
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