一般セッション(ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2017年3月17日(金) 09:30 〜 11:30 P1 (展示ホールＢ)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 11:30
〇岡本 浩行1、野田 浩平1、坂本 盛嗣1、佐々木 友之1、小野 浩司1 (1.長岡技大)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇荻原 昭文1、渡邊 実2、伊藤 芳純2 (1.神戸高専、2.静岡大)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇木下 基1、古川 元行1、杉山 茉奈1 (1.埼工大工)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
中窪 奎喬1、朱 峻鋒1、野間田 裕昭1、樋口 宏和1、吉岡 宏晃1、森田 金市2、〇興 雄司1 (1.九州大システム情報、2.ウシオ電機)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
陳 曉西1、李 其昌2、王 思聡1、〇葉 茂1 (1.電科大、2.成都微晶)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇中山 朋子1、高山 佳久2、藤川 知栄美1、小舘 香椎子3 (1.東海大工、2.東海大情報通、3.電通大)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇奥山 真光1、太田 正倫1、ビンティ エム アズミ ナダ ディアナ1、水野 敬規1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇高本 享昌1、太田 正倫1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇梁瀬 智1、内田 勝1 (1.秋田産技センター)
スケジュール
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