[14a-413-1~1] プラズマプロセス制御のためのプラズマシミュレーション基礎～表面反応の理解を中心に～

[14a-413-1] プラズマプロセス制御のためのプラズマシミュレーション基礎～表面反応の理解を中心に～

キーワード：チュートリアル

【内容】
近年の半導体チップにおける３次元構造や新規材料等の導入により、その製造工程にも、従来技術の延長ではない新規プロセスの導入が求められている。 特に、新規の材料に対して原子スケールの精度での膜堆積や加工が求められる際には、プラズマに接する物質表面上の化学反応に関する深い理解が、新規のプロセス技術開発にも重要な役割を果たす。 本チュートリアルでは、プラズマから照射される各種粒子と物質表面との相互作用を解析するツールとしての分子動力学シミュレーションと第一原子（量子力学）シミュレーションについて概説し、対応する実験結果との比較の議論も含め、シミュレーション結果を実際のプロセス開発にどのように応用できるか、その方法論を詳細に議論する。 また、よりマクロなスケールを対象とした各種シミュレーション（形状シミュレーションからプラズマシミュレーション）についても、マルチスケール物理の観点から、その概要と相互関係について議論する。