2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[14p-213-1~14] 6.4 薄膜新材料

2017年3月14日(火) 13:45 〜 18:30 213 (213)

土屋 哲男(産総研)、鈴木 宗泰(産総研)

18:15 〜 18:30

[14p-213-14] キレート焼成法にキレートフレーム法を組み合わせたGd添加CeO2膜の合成

中村 祥太1、中村 淳1,2、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト(株))

キーワード:キレートフレーム法、キレート焼成法、Gd添加CeO2