The 64th JSAP Spring Meeting, 2017

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.5 Surface Physics, Vacuum

[14p-316-1~16] 6.5 Surface Physics, Vacuum

Tue. Mar 14, 2017 1:15 PM - 5:45 PM 316 (316)

Masakazu Ichikawa(Univ. of Tokyo), Sakura Takeda(NAIST)

4:45 PM - 5:00 PM

[14p-316-13] Self-organized and aligned rod structures of copper on native oxidized silicon surfaces

〇(B)Takuro Sakamoto1, Takashi Nishimura1, Masahiko Tomitori2 (1.Suzuka College, 2.JAIST)

Keywords:the rod structures of copper, native oxidized silicon surface, Self-organization

現在、シリコン(Si)ウェハーの微細加工法はリソグラフィーが主流である。一方、新しい微細加工法として、ナノインプリントや、自己組織化現象、局所加熱による対流と膨張を利用した方法などが提案されている。さらには、ラインパターン構造をガイドとして、脱濡れ現象によって形成したナノ粒子を規則配置させる方法も報告されている。本研究では、自然酸化Siウェハー表面上に蒸着した銅(Cu)薄膜を加熱することにより、Siウェハーの結晶対称規則性をガイドとしたようなロッド構造体が形成・配置されることを見出したので報告する。