[14p-316-1~16] 6.5 表面物理・真空

[14p-316-13] 自然酸化シリコン表面上に自己組織的に形成・配置された銅ロッド構造

〇(B)坂本 拓朗¹、西村 高志¹、富取 正彦² (1.鈴鹿高専、2.北陸先端大)

キーワード：銅ロッド構造、自然酸化シリコン表面、自己組織的形成

現在、シリコン（Si）ウェハーの微細加工法はリソグラフィーが主流である。一方、新しい微細加工法として、ナノインプリントや、自己組織化現象、局所加熱による対流と膨張を利用した方法などが提案されている。さらには、ラインパターン構造をガイドとして、脱濡れ現象によって形成したナノ粒子を規則配置させる方法も報告されている。本研究では、自然酸化Siウェハー表面上に蒸着した銅（Cu）薄膜を加熱することにより、Siウェハーの結晶対称規則性をガイドとしたようなロッド構造体が形成・配置されることを見出したので報告する。