[14p-317-1~10] 1.3 新技術・複合新領域

[14p-317-3] Deep-RIEとXeF₂気相エッチングによるVO_x/Si₃N₄/SiO₂メンブレンの製作

〇前田 幸平¹、西岡 國生²、ヴァン・ニュ ハイ¹、松谷 晃宏²、立木 隆¹、内田 貴司¹ (1.防衛大電気電子、2.東工大マイクロプロセス)

キーワード：有機金属分解法、VOx薄膜、ボロメータ