[14p-424-1~16] CS.4 7. Code-sharing Session: Beam Technology and Nanofabrication

△ [14p-424-5] High sensitive visualization of localized field using low energy electron beam deflection

〇Samuel Jeong¹, Gary Edwards², Jun-ichi Fujita^1,3 (1.Univ. Tsukuba, 2.Deben UK Ltd., 3.TIMS)

Keywords:low energy electron beam, localized field, visualization

当研究室は、低加速電子線偏向を用いた電界可視化技術を以前にも報告してきた。これまで報告してきた電界可視化技術では、実空間グリッドマーカーを電子線検出器として用い、5keVの電子線ではおおよそ電界強度が10²V/mm程度の検出感度を得る事ができた。しかし、この検出感度は我々が目標とする触媒グラフェンの欠陥近傍における局在分極などの局在電界を可視化するには不十分であった。本研究では、高感度半導体センサーの応用と、散乱長の延長による実験系の改良を行うことで10¹V/mm程度の電界についても可視化を行うことが可能となったので報告する。