[14p-424-1~16] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[14p-424-7] 超小型電子ビーム直接描画機： 電子光学系及びナノレベル多軸ステージ

〇門田 和也¹、小坂 光二² (1.ナノサイエンスラボ、2.株式会社　TCK)

キーワード：超小型電子ビーム直接描画機、電子光学系、ナノレベル多軸ステージ

多様化し、深化発展する半導体、MEMS、医療、バイオ等の研究開発、少量多品種生産分野に応える為には、大口径メガファブとは別の戦略が必要である。これ等の市場ニーズは、１００ｎｍノードクラスの微細化・細線化の実現であり、新規の回路設計、デバイス、統合プロセス、要素・材料プロセス、信頼性、品質等に関する原理検証、及びフレキシブル少量多品種開発・生産による市場への供給である。このニーズを果たす為には、メガファブとは異なる小型基板を用い、超小型で廉価、且つメンテナンス負荷の軽い、ロバスト性の高いシステムが不可欠である。この観点から、本研究では、電子ビーム露光（以下、ＥＢＤＷと略す）に特化した超小型基板用の露光装置を提案する。