[14p-502-1~15] 21.1 Joint Session K

[14p-502-15] Low Temperature Formation of ZnO Films by Mist-CVD

〇Tomoki Mikuriya¹, Ogawa Hirotaka¹, Kido Tomotaka¹, Yatabe Zenji², Nishi Yasutaka³, Nakazumi Masaru³, Iwahori Koichiro³, Nara Kei³, Namihira Takao⁴, Nakamura Yusui^5,6 (1.GSST.Kumamoto Univ., 2.POIE Kumamoto Univ., 3.Nikon Conrporation., 4.IPPS.Kumamoto Univ., 5.FAST. Kumamoto Univ., 6.Phoenics.)

Keywords:zinc oxide

透明導電膜(TCO)は様々なデバイスに用いられており、低価格化が求められており、そこで安価な酸化亜鉛(ZnO)が注目されている。本研究では、大気圧で成膜可能なミストCVD法を用いて低温でGaドープZnO薄膜を形成することを目的としている。低温成膜の実現により、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のプラスチックフィルムにZnO膜を形成することが出来きるため、TCOの顕著な低価格化につながると期待される。