2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[14p-512-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2017年3月14日(火) 13:45 〜 18:00 512 (511+512)

谷 峻太郎(東大)、西 哲平(豊田中研)

15:45 〜 16:00

[14p-512-8] 液中レーザーアブレーションで作製したCoOナノ粒子触媒による電気化学的な水の酸化反応

西 哲平1、早坂 祐一郎2、鈴木 登美子1、佐藤 俊介1、中村 貴宏3、佐藤 俊一3、森川 健志1 (1.豊田中研、2.東北大先端電子顕微鏡センター、3.東北大多元研)

キーワード:レーザーアブレーション、水の酸化、触媒

Ar雰囲気下で市販のCo3O4粉末を焼成することでCoO粉末を作製した。作製したCoO粉末をターゲットとして、フェムト秒レーザーを用いた液中レーザーアブレーションによりコロイド状ナノ粒子を作製した。作製したCoOナノ粒子をカーボンペーパーに担持させ、電気化学特性評価を行った。その結果、ナノサイズ化による過電圧の低下を確認した。講演ではナノサイズ化によるバンド構造の変化などについても述べる。