The 64th JSAP Spring Meeting, 2017

Presentation information

Oral presentation

3 Optics and Photonics » 3.7 Laser processing

[14p-512-1~15] 3.7 Laser processing

Tue. Mar 14, 2017 1:45 PM - 6:00 PM 512 (512)

Shuntaro Tani(Univ. of Tokyo), Teppei Nishi(Toyota Central R&D Labs)

4:00 PM - 4:15 PM

[14p-512-9] Hydrofluoric Acid Treatment Effect on Silicon Submicrometer Spherical Particle Formation by Pulsed Laser Melting in Liquid

Yuya Wakatsuki1, Naoto Koshizaki1, Yoshie Ishikawa2 (1.Hokkaido Univ., 2.AIST)

Keywords:silicon, Pulsed Laser Melting in Liquid, Submicrometer Spherical Particle

液体中に粒子を分散させたコロイド溶液にパルスレーザーを照射することによって,さまざまな材料のサブミクロンサイズの球状粒子を作製することができるが,シリコンの球状粒子合成に関する報告は限られている.粒子生成条件を見直すことによって,従来より低いフルーエンスでの粒子生成に成功したが,粒子以外の膜状物質が同時に生成していた.原料にフッ酸を用いて酸処理することによって,膜状物質の生成を防ぐことができた.