2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[14p-F201-1~14] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2017年3月14日(火) 13:45 〜 17:30 F201 (F201)

末岡 浩治(岡山県立大)、中野 智(九大)

16:30 〜 16:45

[14p-F201-11] Si中Cu4複合体と水素の不純物反応

白井 光雲1、藤村 卓巧1 (1.阪大産研)

キーワード:銅複合欠陥、水素反応

シリコン中のCu4個からなる複合体欠陥は非常に安定であるにも関わらず、水素が入ると容易に壊変する。その機構を理論から解明する。前回までに、Cu4に4個までの水素が結合しCu4Hm複合体を形成することを明らかにしたが。今回はさらに水素を12まで増やすと、水素分子も形成され最終的にはCu4がかい離することを示す。