[14p-P1-1~25] 8 プラズマエレクトロニクス（ポスター）

[14p-P1-14] 超音速噴流を用いたVHFプラズマによる超高速DLC成膜

〇井本 幸希¹、宗 洋志¹、岩崎 悠也¹、戸野 博之¹、牟田 浩司¹、西田 哲² (1.近畿大産業理工、2.岐阜大院工)

キーワード：DLC成膜

本研究は、超音速噴流を用いたVHFプラズマCVD法により、DLC高速成膜の実現性を調べたものである。メタンとアルゴンの混合ガスをノズル電極より導入し、ガス圧1000Pa程度で60MHzのVHF高周波を印加することで成膜を行った。ガス流量、混合比、基板間隔などの条件により、成膜された膜に違いが生じた。また、その時の成膜速度は約2μm/s程度に達し、高速成膜が十分可能であることが分かった。