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[14p-P4-33] マスクレスフォトリソグラフィ装置の開発とCu/グラフェン微細素子における空間分解電子状態解析
キーワード:グラフェン、マスクレスフォトリソグラフィ、走査型光電子分光
本研究ではグラフェンデバイスの局所電子状態を制御するため,マスクレスフォトリソグラフィ装置を開発すると共に,グラフェンを用いた微細素子を作製し,局所電子状態を軟X線放射光顕微分光分析により解析した。C 1sスペクトルのメイン,不純物ピークの強度比を議論した結果,グラフェンに対する汚染の深さ成分が議論でき,微細加工プロセスの改善すべき点が示された。