2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[14p-P6-1~14] 3.5 レーザー装置・材料

3.5と3.14のコードシェアセッションあり

2017年3月14日(火) 16:00 〜 18:00 P6 (展示ホールB)

16:00 〜 18:00

[14p-P6-12] Cr4+:YAG可飽和吸収の偏光依存性に関する一般モデル

佐藤 庸一1、平等 拓範1 (1.分子研)

キーワード:受動Qスイッチ、Cr:YAG、可飽和吸収

受動QスイッチレーザーにおいてQスイッチ材料として用いるCr4+:YAGには可飽和吸収の偏光依存性がある。我々は Cr4+:YAGにおける任意の面を入射面とした場合の偏光依存性について、3つの分光パラメータで記述できる実用的な理論式を導出した。さらに、初期透過率75%の(110)-cut Cr:YAGと、波長1.06 µmで1W単一偏光出力のNd:YAGレーザーを用い、本モデルを実験的に検証した。