[14p-P9-1~30] 8 プラズマエレクトロニクス（ポスター）

[14p-P9-1] プラズマ化学輸送によるh-BN原子層の形成 – 銅シリサイド基板の効果

〇北嶋 武¹、中野 俊樹¹ (1.防大)

キーワード：ナノ薄膜、原子層、プラズマ

我々はプラズマ源利用によるh-BN低温形成を試行し、これまでにプラズマ源近傍からの炭素不純物によるh-BN-グラフェン混晶の発生を示してきた。今回、Cu/(SiO₂)/Si(100)積層構造からの銅シリサイド基板を用い、比較的大きなドメインのh-BN系薄膜が形成されたとみられる。