[14p-P9-1~30] 8 Plasma Electronics（Poster）

[14p-P9-4] Simulation of Glancing-angle Reactive Deposition with High Directional Crucibles

〇(B)Hiroki Izumisawa¹, Akihiro Nakao¹, Yasusi Inoue¹, Osamu Takai² (1.Chiba Institute of Technology., 2.Kanto Gakuin Univ.)

Keywords:control structure

斜め堆積法は離散的ナノ柱状構造薄膜を容易に作製できる手段である．その原理は自己遮蔽効果に基づくため，気相中で散乱を起こす環境下では適さないとされている．そこで指向性の高い蒸発源を用いることによって，微細構造制御性が向上する考え，シミュレーションで斜め堆積法が可能な条件を模索する．