2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.13 半導体光デバイス

[15a-422-1~12] 3.13 半導体光デバイス

3.13と3.15のコードシェアセッションあり

2017年3月15日(水) 09:00 〜 12:15 422 (422)

雨宮 智宏(東工大)

11:15 〜 11:30

[15a-422-9] フッ素系樹脂の深紫外発光ダイオード用封止樹脂としての耐久性とその劣化機構

長澤 陽祐1、山田 貴穂1、永井 祥子1、平野 光1、一本松 正道1、青崎 耕2、本田 善央3、天野 浩3、赤﨑 勇4 (1.創光科学株式会社、2.旭硝子株式会社、3.名古屋大学、4.名城大学)

キーワード:深紫外発光ダイオード、樹脂封止、フッ素系樹脂

AlGaN系深紫外発光ダイオード(波長250~300nm)の封止樹脂として、シリコーン樹脂は深紫外光に対する耐性を持たず、フッ素系樹脂が必要とされること、および、フッ素系高分子の末端基が-CF3のみが深紫外耐性があることを前回報告した。今回は主鎖構造の異なる2種類のフッ素系樹脂を比較し、主鎖構造に関わる劣化機構について報告する。