[15a-423-1~9] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[15a-423-5] 遅延硬化型UV硬化樹脂を用いた不透明材料へのUVナノインプリント

〇川田 博昭¹、筒井 治衣¹、安田 雅昭¹、平井 義彦¹ (1.大府大工)

キーワード：光ナノインプリント、遅延紫外線硬化

UVナノインプリントではSi基板とSiモールドのように基板とモールドが両方とも不透明な材料を用いることができない。本研究ではUV照射後一定時間経過してから硬化が始まる遅延硬化型UV硬化樹脂を用いてSi基板、SiモールドでUVナノインプリントを行った。Siモールドとしてはハーフピッチ2μmのラインアンドスペースパターンを用いた。その結果、PMMAに通常の熱ナノインプリントを行った場合とほぼ同等のパターンが遅延硬化型UV硬化樹脂上に作製できた。