[15a-423-1~9] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[15a-423-7] 確率論的モデルに基づくナノ空間中でのUV-NILレジストの硬化特性解析

〇香山 真範¹、白井 正充¹、川田 博昭¹、平井 義彦¹、安田 雅昭¹ (1.大阪府大院工)

キーワード：光インプリント、硬化特性、確率論的モデル

本研究では確率論的モデルに基づくシミュレーション手法を提案し，UVナノインプリントにおけるレジストのUV硬化特性を理論解析した結果を報告する．UV照射により活性化したモノマーは，仮定した反応半径内より別のモノマーを確率的に選択し結合を形成する．結合相手に選ばれたモノマーが次に活性化し，反応半径内の別のモノマーと次の結合を形成する．これを繰り返すことによりUV硬化をモデル化している．簡単なモデルであるにも関わらず実験に近い分子量分布が再現できた．