[15a-F203-1~8] 17.3 Layered materials

△ [15a-F203-4] CVD growth of large-area, uniform multilayer h-BN and application to TMDC heterostructure

〇Yuki Uchida¹, Sho Nakandakari¹, Kenji Kawahara², Shigeto Yamasaki¹, Masatoshi Mituhara¹, Hiroki Ago^1,2,3 (1.Kyushu Univ., 2.GIC, Kyushu Univ., 3.JST-PRESTO)

Keywords:Layered material, CVD growth, 2D material

h-BNの多層膜は二次元材料の理想的な絶縁層として期待されている。ここ数年、多層h-BNのCVD 成長に関する複数の報告がなされているが、成長したh-BNの厚さや結晶性は非常に不均一である。我々は原料ガスの種類、金属触媒等を検討した結果、ボラジンを原料、結晶面を制御した合金薄膜を触媒として用いることで3~10 nmの膜厚で均一性が高い多層h-BNの大面積成長を実現した。多層h-BN上に直接成長した単層WS₂では、光学特性の大幅な向上が確認された。