[15a-F203-1~8] 17.3 層状物質

△ [15a-F203-4] 大面積で均一な多層h-BNのCVD成長とTMDCとのヘテロ構造への展開

〇内田 勇気¹、仲村渠 翔¹、河原 憲治²、山崎 重人¹、光原 昌寿¹、吾郷 浩樹^1,2,3 (1.九大院総理工、2.九大GIC、3.JSTさきがけ)

キーワード：層状物質、CVD成長、2次元材料

h-BNの多層膜は二次元材料の理想的な絶縁層として期待されている。ここ数年、多層h-BNのCVD 成長に関する複数の報告がなされているが、成長したh-BNの厚さや結晶性は非常に不均一である。我々は原料ガスの種類、金属触媒等を検討した結果、ボラジンを原料、結晶面を制御した合金薄膜を触媒として用いることで3~10 nmの膜厚で均一性が高い多層h-BNの大面積成長を実現した。多層h-BN上に直接成長した単層WS₂では、光学特性の大幅な向上が確認された。