[15a-P10-1~5] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[15a-P10-3] 各種シリカガラスのX線誘起光吸収帯特性変化

〇(M1)榊原 宏樹¹、葛生 伸¹、佐藤 直哉¹、荒川 優¹、堀越 秀春² (1.福大工、2.東ソー・エスジーエム)

キーワード：シリカガラス、非晶質

シリカガラスは一般的に放射線や紫外線を照射することにより吸収帯が生成する。この誘起光吸収帯は欠陥構造が原因である。本研究では、製造方法や性質の異なる9種類のシリカガラスサンプルに対して、欠陥構造の解明を目的としてX線照射を行い、誘起光吸収帯の変化を調べた。